• K8凯发

      产线级钙钛矿平面涂布设备
      产品概述：

      本设备采用垂直涂覆工艺，专为实现大面积、高一致性的平面湿法薄膜制备而设计。搭载高带宽运动控制系统，精确协同模头升降、供料与速度；集成纳米级在线测量传感器，全程保障涂层厚度均匀性。

      核心参数：

      涂覆基材覆盖范围：600×600mm~ 2400×1200mm

      涂覆湿厚：≥3um
      成膜干厚：优于5%（@500nm）

      最大涂覆速度：80mm/s
      产能节拍：约1ppm（需配合高速上下料系统实现）